カトウダ, タカシ
河東田, 隆(1944-)
著者名典拠詳細を表示
| 著者の属性 | 個人 |
|---|---|
| 場所 | 東京 |
| 一般注記 | 東京大学工学部教授 工学博士 出生地の追加は著書「レーザーラマン分光法による半導体の評価」(1988,東京大学出版会)の奥付より。 EDSRC:ガリウムヒ素 / 生駒俊明, 河東田隆, 長谷川文夫著(丸善, 1988.1):奥付(著者の現職:河東田隆:東京大学工学部境界領域研究施設助教授) |
| Dates of Birth and Death | 1944 |
| コード類 | 典拠ID=AU00082113 NCID=DA00880833 |
| 1 | デバイスプロセス / 河東田隆著 東京 : 培風館 , 1993.1 |